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1.
通过比较氢氟酸-硝酸高压罐密闭消解法、 氢氟酸-硝酸-高氯酸-盐酸低压密闭消解法和氢氟酸-硝酸-高氯酸-盐酸敞口消解法对钼矿样品的分解效果, 选用低压密闭消解法制备样品, 用电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)法测定伴生稀有元素Li,Ga和15种稀土元素的质量比. 通过对干扰元素的分析, 选择合适同位素, 并确定151Eu,157Gd,159Tb质谱干扰的校正系数. 结果表明,  20 μg/L的铑(Rh)标准溶液作为内标可有效抑制溶液中的基体效应和信号动态漂移, 方法检出限为0.001~0.113 μg/g, 相对标准偏差(RSD, n=7)为0.30%~3.92%.  经标准物质和实际样品验证, 该方法可靠, 适合钼矿中伴生Li,Ga和稀土元素的测定.  相似文献   
2.
 在自行研制的离子束辅助孪生磁场中频反应溅射设备中制备光学氧化钛薄膜,利用郎缪尔静电探针研究等离子特性变化,同时测定基片表面的伏安(I-V)特性。结果表明,随离子束功率密度不断提高,等离子体电子密度不断增加,悬浮负电位绝对值减小,溅射阴极电压下降;基片表面经历从富电子向富阳离子转变,基片正电位不断提高;辅助离子束为109 W时,基片表面处于电中性等离子体平衡态。  相似文献   
3.
为了分析低轨导航增强系统中信号功率增强对阵列接收机的影响, 提出一种信号传播与阵列接收机的数学模型, 基于该模型分析了功率增强条件下最小均方误差算法与直接矩阵求逆算法对抗干扰性能的影响。根据理论分析与仿真实验, 增强信号对最小均方误差与直接矩阵求逆的影响相似, 当信号增强量在15 dB以下时, 阵列抗干扰对信号的影响较小;随着信号功率进一步增强, 增强信号被识别为干扰并进行了抑制;当信号的信噪比增强到10 dB时, 增强信号被抑制约15 dB。研究结果表明, 在采用传统阵列抗干扰方法的情况下, 信号功率的增强并非越大越好, 信号功率增强15 dB时对传统阵列抗干扰的影响较小。  相似文献   
4.
5.
茯砖茶属于黑茶中的珍贵品种,为后发酵茶,具有极特殊的发花工艺。其特别风味和保健功效深受消费者青睐。为茯砖茶得到更好地研究与开发,就茯砖茶所富含的茶多酚、茶多糖、氨基酸、咖啡碱等多种成分及其减肥降脂、降血糖、抗氧化等保健功效进行综述,同时探讨了目前茯砖茶研究过程中存在的问题,展望了茯砖茶未来的发展前景,对茯砖茶的进一步加工利用奠定了基础。  相似文献   
6.
将化纤长丝生产线按功能特点分成生产、检测、包装和仓储4个子系统,基于Unity 3D分别在4台电脑上进行协同仿真和显示。生产子系统使用数据化驱动可以仿真任意生产规模的场景,检测子系统与智能检测模块联合可以仿真基于视觉处理的真实生产线产品质量检测,包装子系统可以对质量合格的丝饼按规格打包,仓储子系统根据订单需求对已打包的丝饼进行存储并完成进出库操作。对各子系统需要通信的数据制定了协议,使用基于TCP/IP(transmission control protocol/internet protocol)的Socket通信完成多台电脑协同仿真。试验表明,多机协同仿真可以更高效地设计和优化化纤长丝生产线。  相似文献   
7.
利用X射线光电子能谱(XPS)测试5,10,15,20-四-(对羟基苯基)卟啉单体和5,10,15,20-四-(对羟基苯基)卟啉自组装二聚体,并通过化学模拟得到卟啉自组装二聚体分子的最优构象.结果表明:两种卟啉化合物中氧原子的类型不同;在单体卟啉中未检测到瞬态表面光电压信号,卟啉自组装二聚体表现出较好的瞬态表面光伏特性;卟啉自组装二聚体的光限幅性质优于卟啉1单体.  相似文献   
8.
化工行业是我国工业发展的重要组成部分,是我国重要的产业类型。化工设备安全平稳运行是保证企业完成生产任务的重要因素,也是保证企业安全生产和利益最大化的基础。本文对化工设备产生故障的原因、故障出现的规律及保养维护措施等进行了探讨分析。  相似文献   
9.
本文介绍了循环流化床锅炉以及返料器存在的由于返料阀为高流率、低压头、小风量自平衡回灰阀,返料阀松动风采用一次冷风,使用过程中返料装置的配风管容易出现弯曲变形,返料不均匀造成堵塞的缺陷,返料装置的缺陷影响了锅炉的安全稳定运行,造成了一定的经济损失,为彻底解决此问题,通过对现有返料装置进行了改造,解决返料器堵塞的问题,为锅炉安全、稳定、长周期运行提供了基础保障。  相似文献   
10.
为了探究有机荧光材料在微纳尺寸上的荧光特性,采用低真空物理气相沉积方法制备了茶碱(TP)和2,3,5,6-四氟对苯二甲酸(TFA)有机纳米薄膜。通过对TP和TFA薄膜的荧光性质进行表征发现:与TP粉末相比薄膜的荧光发射峰由1个增加到4个,发射波长范围拓宽了100 nm,TFA的荧光发射峰之间的相对荧光强度发生了变化,与原料粉末相比在408 nm处的荧光发射峰蓝移了7 nm,362 nm处的荧光发射峰红移了3 nm。另外随着纳米薄膜厚度的逐渐增加,其荧光效率也逐渐增大。通过对TP和TFA纳米薄膜的表面形貌表征发现:随着薄膜厚度的增加,颗粒的聚集形态尺寸逐渐增大,从而验证了荧光效率随膜厚增加而逐渐提升的特性。  相似文献   
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